東風(fēng)855吸糞車,東風(fēng)牌吸糞車
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中國目前光刻機(jī)處于怎樣的水平?
如果荷蘭AMSL的光刻機(jī)是一流標(biāo)準(zhǔn),日本的東芝是二流水平,則中國的光刻機(jī)應(yīng)當(dāng)在世界三流向二流過渡的水平。因?yàn)槟壳耙淹嘎兜男畔@示14nm芯片制造需要的光刻機(jī)已在試制中,28nm的光刻機(jī)已制造完成………正在調(diào)整完善中。
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先來介紹什么是光刻機(jī)。光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)。在生產(chǎn)芯片過程中,由于集成電路很細(xì),就比如麒麟980芯片是7nm工藝的,就代表該芯片中電路寬度為7nm,并且電路數(shù)量動(dòng)輒幾億甚至幾十億條,顯然不能用機(jī)械雕刻,這就需要用“光”來雕刻電路,這就是光刻機(jī)的用途。
為了達(dá)到目的,科學(xué)家在金屬上覆蓋上一層光刻膠,然后利用光刻機(jī)去照射,那些被光線照射到的光刻膠就消失了,然后再用化學(xué)物質(zhì)腐蝕,那么電路的形狀就出來了。可見,光刻機(jī)在芯片、電路板的生產(chǎn)過程中多么重要。
正是因?yàn)楣饪虣C(jī)的精度高、技術(shù)要求高,光刻機(jī)的價(jià)格一直居高不下,動(dòng)輒幾千萬美元。更可氣的是最先進(jìn)的光刻機(jī)美國不賣給中國,這也是為什么國內(nèi)芯片達(dá)不到高精度,連生產(chǎn)工具都掌握在別的國家手里,生產(chǎn)出的芯片還能比得過別的國家嗎?
非常遺憾的是,現(xiàn)在國內(nèi)的光刻機(jī)還處于起步階段,水平落后世界很多。目前國內(nèi)能夠量產(chǎn)的光刻機(jī)只能夠光刻90nm的大規(guī)模集成電路,跟最先進(jìn)7nm的設(shè)備差距可以說是極大的。
就在上周四新華社發(fā)文稱,國家重大科研裝備研制項(xiàng)目——“超分辨光刻裝備研制”在成都成功通過專家組驗(yàn)收。報(bào)道稱該設(shè)備是世界上首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機(jī)。筆者也有幸去了中科院光電所旁聽此次驗(yàn)收會(huì),寫了報(bào)道,還算熟悉,無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。
中科院研發(fā)的這臺(tái)光刻機(jī)并不能用來CPU,只能用在一些技術(shù)要求較低的場景。在驗(yàn)收會(huì)上有記者問:該光刻設(shè)備能不能打破國外芯片的壟斷?光電所專家回答說,光刻機(jī)用于芯片需要還攻克大量技術(shù)難題,目前距離還很遙遠(yuǎn)。
從目前來看,中國是有能力研發(fā)光刻機(jī)的,也成功量產(chǎn)了許多。但是要和最先進(jìn)的光刻機(jī)比,國內(nèi)還相差甚遠(yuǎn)。不過我們也不需要為之擔(dān)憂,在這方面中國本來起步就晚,現(xiàn)在比不過歐美國家也是正常的。都是相信在不久的將來,光刻機(jī)這一難題終將被攻克!
日前(2020/05/14),全球芯片制造設(shè)備巨頭阿斯麥(ASML))公司與無錫高新區(qū)簽署戰(zhàn)略合作協(xié)議。原以為這是引領(lǐng)核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的一面旗幟?但只是一場美麗的誤會(huì),ASML只是在無錫升級(jí)光刻設(shè)備技術(shù)服務(wù)基地。
若設(shè)備進(jìn)口不算,還停留在實(shí)驗(yàn)室階段的也不算,實(shí)際上代表國產(chǎn)光刻機(jī)最高水平的目前還仍是上海微電子的90nm制程工藝。
那為什么會(huì)有人認(rèn)為咱們光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入了22nm時(shí)代?甚至說5nm工藝?
其實(shí)是誤解。關(guān)于5nm的說法其實(shí)是刻蝕機(jī)技術(shù),并非光刻機(jī)。早在2018年的時(shí)候,中微半導(dǎo)體就宣布掌握了5nm刻蝕機(jī)技術(shù),還通過了臺(tái)積電5nm工藝校驗(yàn)。
但是,光刻機(jī)國產(chǎn)化進(jìn)程顯然要比刻蝕機(jī)要緩慢太多!22nm時(shí)代至多是踏入了半只腳。
2018年11月,中科院光電所經(jīng)過7年研發(fā),成功驗(yàn)收了“超分辨光刻裝備項(xiàng)目”。據(jù)悉,這是世界上首臺(tái)分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備,能夠?qū)崿F(xiàn)22nm光刻工藝。
4月份上海微電子也宣布實(shí)現(xiàn)了22nm光刻機(jī)的研發(fā)突破。但就沒有透露其它的細(xì)節(jié)信息。這樣也只能是用“停留”在試驗(yàn)室來定論了,畢竟目前看來光刻機(jī)22nm節(jié)點(diǎn)離商業(yè)化落地還較遠(yuǎn),短時(shí)間內(nèi)無法迅速落地并進(jìn)行生產(chǎn)。
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